HWE-EA1


HWE-EA1

Artikel-Nr.: HWE006
199,50
Preis inkl. MwSt., zzgl. Versand
Versandgewicht: 6 kg


Bei der HWE-EA1 handelt es sich um eine Anlage zum entwickeln von fotobeschichtetem Basismaterial. Die Anlage arbeitet mit einem Sprüh-Verfahren analog den bekannten HWE-Ätzanlagen. Dieses Verfahren steht für kurze Entwicklungszeiten geringen Entwicklerbedarf und ein konturenscharfes Endergebnis. Die Anlage kann sowohl mit NaOH-freiem Spezialentwickler als auch mit herkömmlichem NaOH-Granulat (Ätznatron) betrieben werden. Die Anlage besteht aus einem Zwei-Kammernsystem aus 4mm starkem Glas. Kammer 1 ist die Entwicklungskammer, Kammer 2 die Spülkammer. Bei der HWE-EA1 handelt es sich um eine Anlage die speziell für die Labor –Prototypen und Kleinserienfertigung von gedruckten Schaltungen entwickelt wurde. Zwei leistungsstarke Motoren sorgen für die gleichmäßige Entwicklerverteilung bzw.ein sauberes abspülen der Platine nach dem Entwickeln. Durch das große Sichtfenster kann der Entwicklungsvorgang optimal beobachtet werden. Das integrierte Heizelement sorgt für eine optimale Entwicklertemperatur von ca. 30°C. Ein am Sichtfenster angebrachtes Thermometer dient zur Überwachung der Entwicklertemperatur. Mit der Anlage können Leiterplatten bis zu einer Größe von 230 X 130 mm entwickelt werden. Ein verstellbarer Platinenhalter dient zur Aufnahme der Leiterplatte. Geringer Platzbedarf dank kompakter Abmessungen ( 360x210x220 mm ). Das Fassungsvermögen der beiden Kammern beträgt je ca. 1,0l
(24 monatíge Werksgarantie)

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